(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202221411200.2 (22)申请日 2022.05.31 (73)专利权人 上海微电子装备 （集团） 股份有限 公司 地址 201203 上海市浦东 新区张东路1525 号 (72)发明人 李英甲　于大维　刁雷　李润芝　 蓝科　 (74)专利代理 机构 上海思捷知识产权代理有限 公司 312 95 专利代理师 郑玮 (51)Int.Cl. G01N 21/88(2006.01) G01N 21/01(2006.01) (54)实用新型名称 明暗场检测装置 (57)摘要 本实用新型提供一种明暗场检测装置， 用于 检测基板 上的待测区域， 包括： 明场照明单元、 暗 场照明单元、 物镜单元及探测单元； 明场照明单 元出射的光束经物镜单元后在待测区域产生明 场光斑， 暗场照明单元出射的光束在待测区域产 生暗场光斑， 明场光斑及暗场光斑的反射光或散 射光经物镜单元后被探测单元采集， 其中， 明场 照明单元中设有明场光斑偏置单元， 利用明场光 斑偏置单元使明场光斑与暗场光斑的间隔距离 大于设定值。 本实用新型， 通过设置明场光斑偏 置单元， 使明场光斑发生偏置， 以增大明场光斑 与暗场光斑的间距， 以此减少两者之间的串扰， 还可利用明场光斑偏置单元提高基板的焦面标 定的准确性， 以及提高暗场照明单元的安装精 度。 权利要求书1页 说明书5页 附图2页 CN 217655026 U 2022.10.25 CN 217655026 U 1.一种明暗场检测装置， 用于检测基板上的待测区域， 其特征在于， 包括： 明场照明单 元、 暗场照明单元、 物镜单元及探测单元； 所述明场照明单元出射的光束 经所述物镜单元后 在所述待测区域产生明场光斑， 所述暗场照明单元出射的光束在所述待测区域产生暗场光 斑， 所述明场光斑及所述暗场光斑的反射光或散射光经所述物镜单元后被所述探测单元采 集， 其中， 所述明场照明单元中设有明场光斑偏置单元， 利用所述明场光斑偏置单元使所述 明场光斑与所述暗场光斑的间隔距离大于设定值。 2.根据权利要求1所述的明暗场检测装置， 其特征在于， 所述明场照明单元包括明场 光 源、 明场照明前组及明场照明中组， 所述明场光斑偏置单元设于所述明场照明前组与所述 明场照明中组之间， 所述明场光斑偏置单元包括偏离于所述明场照明前组的光轴的偏置视 场光阑。 3.根据权利要求2所述的明暗场检测装置， 其特征在于， 所述偏置视场光阑为矩形光 阑， 所述矩形光阑与所述明场照明前组的光轴的偏 置距离大于0.5 mm， 所述明场光斑与所述 物镜单元的视场中心的偏离距离大于 0.4mm。 4.根据权利要求3所述的明暗场检测装置， 其特征在于， 所述明场 光斑偏置单元还包括 调整单元， 利用所述调整单 元调节所述偏置 视场光阑的偏置距离及偏置方向。 5.根据权利要求2所述的明暗场检测装置， 其特征在于， 所述明场照明中组包括沿所述 明场照明单 元的光轴依次设置的负透 镜、 胶合镜及正透 镜。 6.根据权利要求3所述的明暗场检测装置， 其特征在于， 所述暗场光斑呈矩形， 且所述 暗场光斑位于所述物镜单 元的视场中心的远离所述明场光斑的一侧。 7.根据权利要求1所述的明暗场检测装置， 其特征在于， 所述暗场照明单元包括至少三 路分支光路， 至少三路所述分支光路形成环形照射， 每路所述分支光路各包括暗场光源及 暗场光路整形模块。 8.根据权利要求1至7中任一项所述的明暗场检测装置， 其特征在于， 所述探测单元包 括明场探测单元、 暗场探测单元以及大靶面探测单元， 所述明场探测单元用于采集所述明 场光斑， 所述暗场探测单元用于采集所述暗场光斑， 所述大靶面探测单元用于采集所述明 场光斑和所述暗场光斑。 9.根据权利要求1至7中任一项所述的明暗场检测装置， 其特征在于， 所述明场照明单 元及所述暗场照明单 元的光源均为宽带光源。 10.根据权利要求9所述的明暗场检测装置， 其特征在于， 还包括若干滤光单元， 所述滤 光单元设于所述探测单 元与所述物镜单 元之间， 用于不同光波段的明暗场检测。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217655026 U 2明暗场检测装 置 技术领域 [0001]本实用新型 涉及半导体技 术领域， 特别涉及一种明暗场检测装置 。 背景技术 [0002]在半导体设计、 制造、 封装中的各个环节都要进行反复多次的检测、 测试以确保产 品质量， 从而研发出符合系统要求的器件。 缺陷相关的故障成本影响高昂， 从IC级别的数十 美元， 到模块级别的数百美元， 乃至应用端级别的数千美元。 因此， 检测设备从设计验证到 整个半导体制造过程都具有无法替代的重要地 位。 [0003]以现有的光学检测装置为例， 包括明场检测装置、 暗场检测装置等分别用以对不 同工艺、 不同种类的缺陷进行检测， 但该些检测装置的检测效率及检测效果均难以较佳地 适应工艺需求。 实用新型内容 [0004]本实用新型的目的在于提供一种明暗场检测装置， 以提高检测效率及检测效果。 [0005]为解决上述技术问题， 本实用新型提供一种明暗场检测装置， 用于检测基板上的 待测区域， 包括： 明场照明单元、 暗场照明单元、 物镜单元及探测单元； 所述明场照明单元出 射的光束 经所述物镜单元后在所述待测区域产生明场光斑， 所述暗场照明单元出射的光束 在所述待测区域产生暗场光斑， 所述明场光斑及所述暗场光斑的反射光或散射光经所述物 镜单元后被所述探测单元采集， 其中， 所述明场照明单元中设有明场光斑偏 置单元， 利用所 述明场光斑偏置单 元使所述明场光斑与所述暗场光斑的间隔距离大于设定值。 [0006]可选的， 所述明场照明单元包括明场光源、 明场照明前组及明场照明中组， 所述明 场光斑偏置单元设于所述明场照明前组与所述明场照明中组之 间， 所述明场光斑偏置单元 包括偏离 于所述明场照明前组的光轴的偏置 视场光阑。 [0007]可选的， 所述偏置视场光阑为矩形光阑， 所述矩形光阑与所述明场照明单元的光 轴的偏置距离大于0.5mm， 所述明场光斑与所述物镜单元的视场中心的偏离距离大于 0.4mm。 [0008]可选的， 所述明场光斑偏置单元还包括调整单元， 利用所述调整单元调节所述偏 置视场光阑的偏置距离及偏置方向。 [0009]可选的， 所述明场照明中组包括沿所述明场照明单元的光轴依次设置 的负透镜、 胶合镜及正透 镜。 [0010]可选的， 所述暗场光斑呈矩形， 且所述暗场光斑位于所述物镜单元的视场中心的 远离所述明场光斑的一侧。 [0011]可选的， 所述暗场照明单元包括至少三路分支光路， 至少三路所述分支光路形成 环形照射， 每路所述分光支路各包括暗场光源及暗场光路整形模块。 [0012]可选的， 所述探测单元包括明场探测单元、 暗场探测单元以及大靶面探测单元， 所 述明场探测单元用于采集所述明场光斑， 所述暗场探测单元用于采集所述暗场光斑， 所述说　明　书 1/5 页 3 CN 217655026 U 3